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技術課セミナー
「フォトリソグラフィー技術の基礎と応用」
フォトリソグラフィー技術は半導体製造に欠かせない技術で、集積回路の高度化と共に発展し成熟した技術となっています。最近では半導体以外の幅広い分野で微細な構造体の製作に応用されています。装置開発室では従来から取り組んできた機械技術によるマイクロ加工だけでなく、フォトリソグラフィー技術を導入することによりマイクロ加工の技術領域を広げ、マイクロ流体デバイスをはじめとする実験機器の製作を行っています。本セミナーではフォトリソグラフィーの基礎から応用事例、フォトエッチングやPDMSモールディングなどにより製作した研究用実験機器による先端研究についてご講演いただきます。
開催要領 |
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日時 | 平成24年3月27日(火) 午後2時より |
会場 | 岡崎コンファレンスセンター 2階小会議室 (愛知県岡崎市明大寺町字伝馬8-1) |
交通 | 名古屋鉄道(名鉄)東岡崎駅下車、南へ徒歩10分 |
プログラム |
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14:00-14:05 | 挨拶 技術課長 鈴井光一 |
14:05-14:45 | 「マイクロ波イメージング計測の開発」 長山好夫(核融合科学研究所 教授) |
14:45-15:25 | 「フォトエッチングの基礎と展開する加工技術製品例の紹介」 井上晴夫(東洋精密工業梶@回路基板事業部 部長) |
15:25-15:40 | 休憩 |
15:40-16:20 | 「生体分子反応の実時間観察を可能にする溶液混合装置の開発と応用例」 木村哲就(分子科学研究所 生体分子機能 助教) |
16:20-16:40 | 「フォトリソグラフィーによるマイクロ流路ミキサーの製作」 高田紀子(分子科学研究所 装置開発室) |