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概要 所内の方 所外の方

 装置開発室には機械工作を行うメカトロニクスセクションと電子回路工作を行うエレクトロニクスセクションがあり、 工作依頼を受けて実験機器の設計・製作を行っています。両セクションを合わせ、年間300件を超える工作依頼に対応しています。 一方、「施設利用」は装置開発室が所有する工作機械や測定機器の利用を外部機関に提供するものでしたが、2005年度後期からは、 分子科学および関連する研究分野の研究者による実験機器の製作にも審査を経た上で対応するようになりました。 また、2013年度から、ナノテクノロジープラットフォームを窓口として、協力研究やフォトリソグラフィ技術によるマイクロストラクチャーの製作依頼にも対応し、 大学共同利用機関として全国の研究機関への技術支援を行っています。

工作依頼に関する技術相談や施設利用に関する問い合わせは、souchi@ims.ac.jpまでメールにてご連絡下さい。

 装置開発室には機械工作、電子回路工作、微細加工(フォトリソグラフィ)に関する設備があり、 工作依頼を受けて実験装置の製作を行っています。分子研職員・各種研究員・大学院学生及び 共同利用研究者は工作の依頼だけでなく、設備を利用することもできます。

1.工作の依頼

 工作の内容物があらかじめ定まっている場合は、以下の手順で依頼を行ってください。

(1)依頼の方法
装置開発棟2階210室の下記受付担当者までご連絡ください。
担当者:近藤 聖彦( 内線7213 )
依頼伝票に必要な事項を記入し、必要な図面および資料等を添付のうえ、受付担当者に依頼して下さい。
依頼の際に、図面のチェック、工作方法、納期等の打ち合わせを行ないます。
(注1)
製作する装置に関して、実験の目的、装置の特徴、使用方法、製作する際の注意点、 新しい技術に関する事などを依頼者に説明して頂く事があります。 また実際に工作を行う際、工作担当者から再度依頼に関する説明をお願いすることがありますのでご協力をお願いします。
(注2)
緊急の場合は装置開発室職員に直接ご相談ください。

(2)加工
部品加工の工程で、装置開発室職員による内作のほか、外部業者による外注加工を行うことがあります。
費用等については依頼者に相談いたします。

(3)引き渡し
完成後は装置開発室職員が依頼者に連絡します。連絡を受けたらすみやかに受け取りに来て下さい。
研究室内で調整・試運転が必要と判断されるものについては、担当の職員が依頼者に協力してこれを行うことがあります。

 工作物の具体的な図面は無い・実現したいシステムはあるがどのような形にすべきか決まっていないといった場合は、技術相談という形で各職員にコンタクトを取っていただき、その後に改めて工作依頼とする事もあります。

2.ストックルームの利用

 装置開発室には、機械・回路部品をそれぞれストックしてある場所があります。
ストック品を出庫する場合は、各部屋に設置された出庫手続き用のパソコンを使用して、所属、氏名、 品名、個数等を正確に入力してから持ち出して下さい。 出庫された部品の使用料金は、所属されている部門(研究グループ)に振替します。
 部品の在庫不足などストックに関してお気づきの点は、装置開発室職員にお申し出下さい。
 ストックルームの場所およびストック部品については、以下の通りです。

(1)機械工作ストックルーム
場所 装置開発棟1階104室(機械工作室)内
◇ストック部品..金属材料、ボルト、ナット、Oリング等
(2)回路工作ストックルーム
場所 レーザーセンター棟201室
◇ストック部品..回路工作部品、各種ケーブル、乾電池等

3.装置開発室利用料

 製作費、外注費立替及びストックルームの出庫代金は半期に分け、以下に示す月の教授会議 でそれぞれ報告のうえグループ別に振替します。

前年度後期分(10 月〜3 月分) 4 月 当該年度前期分(4 月〜9 月分) 10 月

4.各工作室の利用法

工作室によって利用方法が異なるため、利用の際にはご注意ください。
また以下のような利用 時間区分があります。

  
工作室利用時間区分
[時間内利用]平日 8:30〜17:15
[時間外利用]平日 17:15〜翌日8:30、土・日曜, 祝日, 年末年始
(1)機械工作室
一般利用可能な工作機械リスト
材料取り用.....のこ盤・コンターマシン・高速切断機・シャーリング
ボール盤........卓上ボール盤4台
汎用旋盤........ワシノ4尺旋盤・理研精密旋盤(旧)
フライス盤.....牧野フライス盤(必要に応じて遠州フライス盤)
その他...........ショットブラスト装置・ベルトグラインダー・超音波洗浄機
利用手順
1.機械工作ができる服装をして下さい。
2.機械工作関係の職員に許可を申し出て下さい。必ず許可を得て、無断では使用しない様にして下さい。
  ・不在のときは他の装置開発室職員に相談して下さい。
  ・所属と名前、工作の内容、使用する工作機械について申告して下さい。
3.記録ノートに記入して下さい。
4.作業帽子・安全眼鏡を職員から受け取り、作業中は受け取った帽子を必ず身につけて下さい。
  職員はこの帽子によって許可の有無を確認します。周りで作業している人同士で確認をお願いします。
5.作業終了後は必ず使用した工具類の返却・整頓及び清掃をして下さい。
  破損した工具がある場合は申し出て下さい。そのままにしておくと、他の人の迷惑になります。
6.作業終了の報告をして記録ノートに記入後、帽子・安全眼鏡を返却して下さい。
(2)回路工作室
装置開発棟2 階 203 室にある一般利用者用作業台を利用できるほか、一部測定機器は工作室内での使用や貸し出しを行っています。
利用の際は、エレクトロニクス関係の職員(内線 7212)から許可を得てください。
(3)フォトリソグラフィ室
以下の機器を利用できます。利用に関しては、micro@ims.ac.jp または内線7213(高田)までご相談ください。
[ナノ]の表示がある機器は、文部科学省「ナノテクノロジープラットフォーム事業」の支援装置です。
化学試料棟2階 209室クリーンルーム
 [ナノ]スピンコーター MS-A100(ミカサ)
 [ナノ]マスクアライナー MA-10(ミカサ)
 [ナノ]マスクレス露光装置 DL-1000IMS
 [ナノ]段差計 KLA-Tencor P7
 [ナノ]三次元光学プロファイラー ZYGO Nexview
    プラズマクリーナー    PDC-32G(HARRICK PLASMA)
    精密手動スクライバー   SC-100(ムサシノ電子)

 実験棟2階クリーンルーム
 [ナノ]小型2源RFスパッタ装置  RSP-4-RF3x2(クライオバック)
(4)[時間外の利用]
各設備の時間外利用は安全上の理由で行えません。ただし機械工作室については、実験準備の緊急性などを考慮し、予約をすることによって時間外の一般利用が可能です。
回路工作室、フォトリソグラフィ室は時間外利用できません。
緊急の場合は各担当職員に相談してください。

5.論文発表に際しての謝辞の明記について

 装置開発室で製作依頼や機器・設備(技術指導や測定依頼なども含む)を利用されて成果を発表される場合は、 下記例文のような謝辞を付記していただくようお願いいたします。
 また、論文が印刷された時には、別刷2部を御寄贈下さい。
(和文)
 分子科学研究所装置開発室の技術支援に感謝します。
(英文)
 The authors are grateful to the Equipment Development Center, the Institute for Molecular Science, for assistance.

 ナノテクノロジープラットフォーム支援設備を利用した場合は、下記例文のように付記していただくようお願いいたします。
(和文)
 本研究の一部は、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業(分子・物質合成)の支援により分子科学研究所装置開発室で実施された。
(英文)
  A part of this work was conducted in Equipment Development Center (Institute for Molecular Science), supported by Nanotechnology Platform Program (Molecule and Material Synthesis) of the Ministry of Education, Culture, Sport, Science and Technology (MEXT),Japan.

6.図面や技術情報の提供

 研究者等からの依頼により技術職員が設計・製作した装置には研究者および技術職員の創意工夫が含まれており、 これらが正当に評価・認識・保護されることは、研究者と技術職員との信頼関係を保ち、分子科学に係る技術開発を奨励するために必要です。
 したがって、装置開発室で試作した装置に関する独創的技術情報を、研究発表や改良装置の試作等に使用する場合、また担当者以外に技術情報を提供する場合について以下のように取り決めます。

(1)事前に担当者間で打合せをし、使用法等につき合意の上使用する。
(2)研究発表に際しては、装置開発室担当者を共著者に含めるか、謝辞に相応の記述をする。
   なお、後者の場合、論文が印刷された時には装置開発室に別刷りを寄贈する。
(3)公表されていない技術情報を担当者以外に提供する場合は、「技術開示に関する覚書」を作成した上で開示する。
(注) 「担当者」とは、装置の依頼者および設計・製作した技術職員を指す。
  <技術開示に関する覚書> (Word FILE) (PDF FILE)
*このリンクをマウスで右クリック(Macの場合はしばらくクリック)して、「対象をファイルに保存」などのメニューを実行してください。

 装置開発室は、大学共同利用機関として、日本全国の分子科学および関連分野の研究者の方々に対して、 研究教育活動をサポートするための施設利用として、「装置開発室の設備利用」「実験装置の開発・製作依頼」の2つの取り組みを行っています。 希望者には、一部ですが旅費も支給いたします。

<利用の流れ>
  
測定・製作が可能かどうか、ご相談ください。 共同利用申請システムから申請してください。 審査には2週間ほどかかります。採択になりましたら、採択通知をお送りします。 宿泊案内 年度末に報告書の提出をお願いします。 論文への謝辞の記載、別刷の寄贈をお願いします。

1.装置開発室の設備利用

 研究装置の試作に必要な工作機械や測定機器など、装置開発室が保有する設備が利用できます。 施設利用に申請してください。 詳しくは、分子研WEBサイトの公募要項の「装置開発室施設利用」をご覧ください。

2.実験装置の開発・製作依頼

 分子科学分野への技術的貢献、装置開発室の技術水準の向上、装置開発室の保有する技術の積極的活用を目的に、実験装置等の開発製作依頼を受け入れています(材料費は負担願います)。
「ナノテクノロジープラットフォーム」の協力研究(支援要素:装置開発)に申請して下さい。

3.論文発表に関してのお願い

  装置開発室で製作依頼や機器・設備(技術指導や測定依頼なども含む)を利用されて成果を発表される場合は、下記例文のような謝辞を付記していただくようお願いいたします。 また、論文が印刷された時には、別刷2部を御寄贈下さい。

(和文)  分子科学研究所装置開発室の技術支援に感謝します。
(英文)  We would like to thank the Equipment Development Center (Institute for Molecular Science) for technical support.

また、ナノテクノロジープラットフォーム支援設備を利用した場合は、
(和文)  本研究の一部は、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業(分子・物質合成)の支援により分子科学研究所装置開発室で実施された。
(英文) A part of this work was conducted in Equipment Development Center (Institute for Molecular Science), supported by Nanotechnology Platform Program(Molecule and Material Synthesis) of the Ministry of Education, Culture, Sport, Science and Technology (MEXT),Japan.


4.図面や技術情報の提供

 研究者等からの依頼により技術職員が設計・製作した装置には、研究者および技術職員の創意工夫が含まれており、これらが正当に評価・認識・保護されることは、研究者と技術職員との信頼関係を保ち、分子科学に係る技術開発を奨励するために必要です。
 したがって、装置開発室で試作した装置に関する独創的技術情報を、研究発表や改良装置の試作等に使用する場合、また担当者以外に技術情報を提供する場合について以下のように取り決めます。

(1) 事前に担当者間で打合せをし、使用法等につき合意の上使用すること。
(2) 研究発表に際しては、装置開発室担当者を共著者に含めるか、謝辞に相応の記述をすること。
なお、後者の場合、論文が印刷された時には装置開発室に別刷りを寄贈すること。
(3) 公表されていない技術情報を担当者以外に提供する場合は、「技術開示に関する覚書」を作成した上で開示すること。
(注) 「担当者」とは、装置の依頼者および設計・製作した技術職員を指す。
<技術開示に関する覚書> (Word FILE) (PDF FILE)
*このリンクをマウスで右クリック(Macの場合はしばらくクリック)して、「対象をファイルに保存」などのメニューを実行してください。