イベント
技術課セミナー
「微細加工に関する技術サロン会」
分子科学研究所装置開発室では、機械加工を基盤として数々の実験機器の製作を行ってきました。最近になって研究者からの製作依頼において、機械加工では難しい微細な構造を必要とするデバイス製作の依頼が多くなりそれに対する対応を迫られていました。そのため、フォトリソグラフィーを中心とした微細加工への取り組みを始め、ナノインプリント用モールドやマイクロミキサーなどの製作を行ってきました。さらに今後もこのような微細な構造を必要とする製作依頼が増えると予想され、微細加工技術のレベルアップに取り組んでいるところです。本会では、各研究機関において微細加工に携わっている技術者および研究者をお招きし、現在取り組んでいる技術に関する紹介とそれに対する意見交換を行い、微細加工に関する技術および交流を深めたいと思います。
開催要領 |
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日時 | 平成24年11月29日(木) 午後1時30分から |
会場 | 分子科学研究所 研究棟3階 302室 |
聴講料 | 無 料 |
事前申込 | 不 要 |
プログラム |
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一日目 13:30-13:35 |
挨拶 |
13:35-14:20 | 「東京工業大学技術部半導体MEMSプロセス技術センターにおける新技術の開発」 松谷晃宏(東京工業大学 技術部 半導体MEMSプロセス技術センター長) |
14:20-15:05 | 「北陸先端大ナノセンターにおける微細加工事例:III-V族化合物半導体を中心に」 赤堀誠志(北陸先端科学技術大学院大学ナノマテリアルセンター 助教) |
15:05-15:15 | 休憩 |
15:15-15:45 | 「反射防止構造の最適化」 笠晴也(北海道大学電子科学研究所) |
15:45-16:15 | 「指定外フォトレジストのレーザーリソグラフィ装置への利用の検討」 齋藤清範(名古屋大学全学技術センター) |
16:15-16:45 | 「マイクロ流路ミキサーを製作して」 高田紀子(分子科学研究所 装置開発室) |
16:45-17:00 | 休憩 |
17:00-17:20 | 「MEMSデバイス作製のための薄膜形成技術 −チャンバー内の残留ガス分析−」 佐藤美那(東京工業大学 技術部 半導体MEMSプロセス技術センター) |
17:20-17:40 | 「マイクロミキサー製作用モールドの洗浄について」 青山正樹(分子科学研究所 装置開発室) |
18:00- | 交流会 |
二日目 | 施設見学 |