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イベント

「第19回分子科学研究所技術研究会」

  本研究会は、大学、高等専門学校及び大学共同利用機関等の技術者が、日常業務で携わっている実験装置の開発、維持管理の話題から改善、改良の話題に及ぶ広範な技術的研究支援活動について議論する場を提供します。内容としては、特定の技術分野にテーマを絞り、登壇者と参加者の充実 した討論とともに、技術者の交流及び技術向上を図ることを目的としています。

開催要領

日時 平成30年2月8日(木)、9日(金)
場所 岡崎コンファレンスセンター 2階 小会議室 
聴講料 無 料
事前申込 技術研究会 Web サイトからお申込みください

                                         

プログラム〔2月8日(木)〕

12:00-13:00 受付
13:00-13:10 開会式

テーマ1:FPGA「HDLとFPGA開発の理想と現実」

基礎セミナー
13:10-13:30
「HDLの変遷−ロジック回路開発のこれまでとこれから」
豊田朋範(分子科学研究所)
13:30-14:00 「FPGA設計手法の最新トレンド」
神保直弘(ザイリンクス株式会社)  
14:00-14:05 休憩

講演1(座長:分子科学研究所 豊田朋範)

14:05-14:35 「HDLを書かないFPGA設計」 
伊藤功(東京大学物性科学研究所)
14:35-15:05 「FPGAでの非同期信号の扱い方とVivadoによるサポート」
小野雅章(筑波大学)  
15:05-15:25 休憩

講演2(座長:筑波大学 小野雅章)

15:25-15:55 「Vivadoにおけるインスタンシエーションのコツ」
八幡和志(東京大学)
15:55-16:25 「Vivadoにおける高速ディレイゲートシステム開発の諸問題」
豊田朋範(分子科学研究所)
16:25-16:45 休憩
16:45-17:35 テーマディスカッション(FPGA)
 

プログラム〔(2月9日(金)〕

テーマ2:フォトリソグラフィ―「微細加工技術〜ゾーンプレートの製作を考える〜」
司会:近藤聖彦(分子科学研究所)  

9:00-9:05 はじめに(テーマ2についての説明)
近藤聖彦(分子科学研究所)  
基礎セミナー
9:05-9:20
「リソグラフィ技術の紹介」
笠晴也(北海道大学)

講演1

9:20-9:40 「軟X線領域用ゾーンプレート製作への期待」
大東琢治
9:40-10:00 「硬X線用フレネルゾーンプレートの利用と求められる性能」
竹内晃久(SPring-8)
10:00-10:10 休憩

講演2

10:10-10:30 「リフトオフによるゾーンプレートの製作」
高田紀子(分子科学研究所)
10:30-10:50 「新規位相差コントラスト電顕法のための電子線フレネルゾーンプレートのFIB加工」
富田雅人(生理学研究所)
10:50-11:10 「エッチングによるゾーンプレート製作の可能性−そのメリットとデメリット−」
松谷晃宏(東京工業大学)
11:10-11:20 休憩
11:20-12:10 テーマディスカッション(フォトリソグラフィー)
12:10-13:10 昼休憩

テーマ3:「次世代へ継ぐ基盤技術」

13:10-14:10 パネルディスカッション
座長:谷田貝悦男(東京大学生産技術研究所)
パネリスト
岡田則夫(JAXA先端工作技術グループ/国立天文台)
大渕喜之(国立天文台 先端技術センター)
小林和宏(名古屋大学 全学技術センター)
武田洋一(岩手大学 高度試作加工センター)
涌井勇輔(東京大学 生産技術研究所)
14:10-15:40 フリーディスカッション
座長:鈴井光一(国立天文台)